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EUV光刻机器光源

 EUV光刻机器光源


在13纳米(NM)的波长下产生的光由于难以创建在该特定波长下吸收辐射的材料而可能具有挑战性。 但是,有几种方法可以在13 nm左右生成光线:



1.激光器:使用特定波长产生光的一种方法是使用激光器。 有不同类型的激光器,例如二极管激光器,气体激光器和固态激光器。 这些激光器可以用一系列波长(包括13 nm)发出光。 为了达到此波长,您需要使用高功率激光源和在此波长下吸收辐射的材料。

2. LED:使用特定波长产生光的另一个选择是使用发光二极管(LED)。 像激光一样,LED取决于其组成和结构,也具有不同的发射光谱。 一些LED可以以接近13 nm的波长发射光,但是它可能需要专门的设计和制造技术才能实现此波长。

3.准分子激光器:准分子激光器是一种使用气体等离子体创建高能光束光束的激光器。 它们可以在包括大约13 nm(约13 nm)的各种波长上发出光。 为了达到此波长,您需要使用准分子激光源并相应地调整其参数。

4.量子点:量子点是由半导体材料制成的微小颗粒,可以限制它们内部的电子和孔,从而导致独特的光学特性。 通过调整量子点的大小和形状,研究人员能够调整其荧光发射光谱,以覆盖广泛的波长,包括约13 nm。 这种方法允许创建具有可调波长的光源。

5.血浆:等离子体学是一个研究领域,涉及操纵表面等离子体,它们是两个具有不同折射率不同的介质之间界面上游离电子的集体振荡。 通过具有精确尺寸的工程金属结构,研究人员已经能够增强在特定波长(包括13 nm)的特定波长下的光吸收。 该技术可能会导致具有可调波长的新光源的发展。


重要的是要注意,这些方法可能需要先进的技术专业知识和专业设备才能成功实施。 此外,某些方法可能涉及复杂且昂贵的程序,因此在探索具有特定波长的光的选项时,必须考虑成本,可行性和安全性等因素。


以13.5 nm的波长获得光的唯一方法是使用等离子体源。 等离子体是一种已经被电离的气体,这意味着某些电子已从原子上剥离。 这会产生积极带电的离子和带负电的电子的云。 当这些颗粒碰撞时,它们会发光。 发出的光的波长取决于电子的能量。 在锡血浆的情况下,电子可以具有足够高的能量,可以发出13.5 nm的波长。


为了创建锡血浆,使用高功率激光器来蒸发一滴TIN。 然后,蒸发的锡罐会膨胀到气体中,激光将气体电离。 所得等离子体以13.5 nm的波长发出光。


然后,该光可用于多种应用,例如极端紫外线光刻(EUV光刻)。 EUV光刻是用于制作计算机芯片的过程。 它使用波长为13.5 nm的光在芯片表面创建图案。 这允许创建具有较小功能的芯片,从而可以提高性能。


这是如何使用等离子体源来生成以13.5 nm的波长生成光的图:


激光束(红色)集中在锡液(蓝色)上。 激光光蒸发锡,所得气体被离子化。 电离气体以13.5 nm(紫色)的波长发出光。


血浆源发出的光不是很强烈。 为了将其用于EUV光刻等应用,有必要放大光线。 这可以使用称为光学扩增的过程来完成。 光学放大使用称为光放大器的设备来增加光的强度。


这项研究将很快更新。


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Founder and CEO of South Asia Semiconductor limited Company. Contact: toorkhan@sasemicon.com @Toor_Khan_

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